真空镀膜：
真空镀膜设备主要用于在经予处理的塑料、陶瓷等制品表面蒸镀金属薄膜（镀铝、铬、锡、不锈钢等金属）、七彩膜仿金膜等,从而获得光亮、美观、价廉的塑料,陶瓷表面金属化制品。广泛应用于工艺美术、装璜装饰、灯具、家具、玩具、酒瓶盖、女式鞋后跟等领域,
JTPZ多功能镀膜技术及设备（加有射频等离子体聚合的蒸发镀膜机），针对汽车、摩托车灯具而设计的，在一个真空室内完成蒸发镀铝和射频等离子体镀保护膜，这种镀膜后灯具具有“三防”功能。射频等离子体聚合膜还应用于光学产品、磁记录介质、军事国防保护膜；防潮增透膜；防锈抗腐蚀；耐磨增硬膜。
用户选择在灯具基体上喷底漆、镀铝膜、镀保护膜或灯具基体在真空室进行前处理（不喷底漆）、镀铝膜、镀保护膜工艺。
在ABS,PC,PBT,PE,PP,PA66等塑料基体上直接镀膜，不需喷底漆，也不需喷面漆(不需要投资喷涂设备），在镀完铝膜后直接镀一层保护膜。滴1%NaOH溶液10分钟铝层不腐蚀，去离子水中浸饱96小时铝层不脱落。
磁控溅射镀膜设备及技术介绍
a旋转磁控溅射镀膜机；旋转磁控溅射镀膜技术，是国内外最先进的磁控溅射镀膜技术，靶材利用率达到70～80%以上，基体镀膜均匀，色泽一致。
b平面磁控溅射镀膜机；
c中频磁控溅射镀膜机；
d射频磁控溅射镀膜机。
可以在金属或非金属（塑料、玻璃、陶瓷）的工件镀金属铝、铜、钛金、锆、银、不锈钢、镍、钼、硅、钛铝及金属反应物（氧化物、氮化物、炭化物）、半导体金属及反应物。所镀膜层均匀、致密、附着力好等特点。
多弧离子镀膜设备及技术
该技术在各种金属和非金属表面上，如不锈钢、铝合金、铜、铁以及陶瓷、玻璃等涂镀各种金属、非金属及其化合物的膜层和复合膜层，如Ti、Zr、TiN、TiC、TiO2、ZrN、ZrC|、ZrO等，产生耐磨、耐蚀、耐用的各种颜色装饰效果：如金色系列、彩色系列、黑色系列等等可广泛用于建筑、家具、机械工模具等行业。
等离子扩渗镀膜设备及技术
离子渗氮：可以在辉光放电条件下，将N、C等元素渗入到零件和模具内部、明显提高表面硬度、抗疲劳等性能和耐腐蚀性，相对于总体渗氮处理时间短、湿度低、变形小、表面性能可控，可用于各种钢铁及钛合金结构件，各种模具和各种不锈钢制品。
想问一下真空镀膜设备容易脏吗？怎么做清洁？
磁控溅射原理
电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响，被束缚在*近靶面的等离子体区域内，该区域内等离子体密度很高，二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动，该电子的运动路径很长，在运动过程中不断的与氩原子发生碰撞电离出大量的氩离子轰击靶材，经过多次碰撞后电子的能量逐渐降低，摆脱磁力线的束缚，远离靶材，最终沉积在基片上。
磁控溅射就是以磁场束缚和延长电子的运动路径，改变电子的运动方向，提高工作气体的电离率和有效利用电子的能量。
电子的归宿不仅仅是基片，真空室内壁及靶源阳极也是电子归宿。但一般基片与真空室及阳极在同一电势。磁场与电场的交互作用（E X B shift）使单个电子轨迹呈三维螺旋状，而不是仅仅在靶面圆周运动。至于靶面圆周型的溅射轮廓，那是靶源磁场磁力线呈圆周形状形状。磁力线分布方向不同会对成膜有很大关系。
在E X B shift机理下工作的不光磁控溅射，多弧镀靶源，离子源，等离子源等都在次原理下工作。所不同的是电场方向，电压电流大小而已。
真空镀膜设备其实是由很多不同的零件组成的，它们都是经过各种机械加工完成的，例如车、铣、刨、磨、镗、焊接等。这样，零件表面不可避免地会沾上许多加工油脂、汗痕、抛光膏、焊剂、金属屑、油垢等污染物。这些污染物在真空中易挥发，影响真空镀膜设备的极限压力和性能稳定性。此外，污染物在大气压下吸附了大量的气体，在真空环境中，这些气体也要被释放出来，构成了限制真空镀膜设备极限压力的因素。为此，零件组装前必须清除掉污染物。
此外，真空镀膜设备在使用过程中，零件还会受到污染。这种污染与使用条件及真空泵有关。例如:真空镀膜机的内壁会被蒸镀材料污染;真空镀膜设备真空抽气机组的机械泵油更是污染源，设备长期工作后会使设备内部形成明显的油膜。这些污染同样会影响设备的性能，应注意随时清除。
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